BFC桌面箱式爐，該款箱式爐采用爐體與智能控溫系統一體式設計。加熱元件采用三面加熱,分布在左、右和頂部，具有升溫速率快、溫度均勻等優點。采用數顯儀表,控溫精度高，可減少人為操作誤差，提高工作效率。此外設備還配備急停按鈕，超溫報警功能，提高了設備使用的安全性 。

TFR實驗級回轉爐集控值系統與爐膛于一體。爐膛本身采用高純氧化鋁微晶纖維高溫真空吸附成型，加熱元件為電阻絲。散熱系統采用雙層風冷結構，爐體表面溫度≤60℃。真空腔室采用石英管材質，其貫穿整個爐體，爐管兩端選用不銹鋼法蘭密封，可在真空或氣氛環境下工作。加熱元件與爐管平行，均勻的分布在爐管外，有效地保證了溫場的均勻性。兩邊附有回轉機構，使爐管勻速轉動，可保證物料充分反應。

可持續進樣高溫高壓管式爐 · 爐體設計為開啟式 · 采用雙層殼體結構，并帶有風冷系統，使得殼體表面溫度小于60℃ · 爐膛采用高純氧化鋁纖維，減少能量損失 · 法蘭處配散熱風扇，使得法蘭溫度80°C

1500系列8L箱式爐采用爐體與智能控溫系統一體式設計。加熱元件采用1500級U型硅碳棒加熱，分布在左、右兩側，具有升溫速率快、加熱均勻等優點。爐體集成數顯儀表，可減少人為操作誤差，控溫精度高。

1700單溫區管式爐是一款小型高溫管式爐，其加熱元件采用1800級硅鉬棒。升溫和降溫由30段程序進行控制，溫度可以達到1700℃。此款高溫爐可以廣泛地用于材料的燒結或是退火（在真空或是惰性氣體保護狀態下）。管式爐爐體表面溫度≤60℃，爐膛采用高純度氧化鋁微晶纖維高溫真空吸附成型。專為高等院校、科研院所的實驗室及工礦企業在可控多種氣氛及真空狀態下對金屬，非金屬及其它化合物進行燒結、熔化、分析而研制的

1500開啟式單溫區管式爐采用硅碳棒為加熱元件，額定溫度1400℃，設計溫度可達1500℃。采用宇電AI-3756P觸摸屏控溫儀和S型熱電偶，可編程30段程序控溫，控溫精度±1℃。設備中包含一套316L不銹鋼快開法蘭，雙環密封技術，可應用于真空或氣氛下燒結、基片鍍膜等實驗環境。